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曝光須知

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文章出處:責任編輯: 發表時間:2013-12-04 09:00:00

  影響曝光成像質量的因素,除干膜光致抗腐蝕的性能外,光源的選擇,曝光時間(曝光量)的控制,照相地板的質量等都是影響曝光成像質量的重要因素,曝光機的真空系統和真空框架材料的選擇以及操作系統環境的溫濕度,潔凈度也會影響曝光成像的質量。

  曝光是使光成像阻焊油墨接受紫外光照射,光引發劑分解為自由基,從而攻擊樹枝,形成自由基連鎖聚合,瞬間使聚合物分子增大,這是膠膜應不溶于弱堿,但可溶于強堿,從而達到既可以顯影又可以及時使有問題的板子返工處理的目的,印刷板焊盤部分被地板所擋住,未曝光的膠膜顯影時去除,已曝光的部分顯影后留存。

  各種感光油墨控制曝光能量一般為300~500mj/cm2,但黑色的油墨高些的能量可達800mj/cm2.

  曝光量過高,易產生光散射,焊盤上產生余膠,曝光不足膠膜受到侵蝕失去光澤或者產生側蝕。

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